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臺積電2納米技術(shù)外泄日企 3人被羈押

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臺積電2納米技術(shù)外泄日企 3人被羈押

2025年08月06日 16:30 來源:中國新聞網(wǎng)
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  中新社臺北8月6日電 日媒《日經(jīng)亞洲》5日報道,臺積電內(nèi)部爆出核心技術(shù)外泄事件,臺積電前員工涉嫌違規(guī)取得2納米制程技術(shù)機密,泄露給東京威力科創(chuàng)員工。臺灣“高檢署”證實,相關(guān)涉案人員涉嫌非法取得營業(yè)秘密,已向法院聲押禁見臺積電前員工陳姓男子等3人獲準。

  綜合《工商時報》《經(jīng)濟日報》等臺媒報道,此次事件涉案人數(shù)高達9人,橫跨臺積電研發(fā)與生產(chǎn)線部門。其中一名臺積電跳槽至日本東京威力科創(chuàng)的工程師聯(lián)合2名臺積電在職工程師,疑似利用遠端連線進入研發(fā)內(nèi)網(wǎng),使用個人手機或電子裝置拍攝上千張照片,竊取技術(shù)機密。

  據(jù)悉,東京威力科創(chuàng)為臺積電重要的設(shè)備供應(yīng)商之一。截至目前,該公司未就此事做任何評論。其母公司TOKYO ELECTRON股價受到?jīng)_擊,一度下跌逾4%。

  臺積電5日回應(yīng)稱,近期在常規(guī)的監(jiān)控情況下偵測到違規(guī)行為,經(jīng)內(nèi)部調(diào)查發(fā)現(xiàn)涉及營業(yè)秘密泄露情況。由于公司建立全面及完備的監(jiān)控機制,得以及早發(fā)現(xiàn),已對涉事違規(guī)人員進行嚴厲懲處,并已采取相關(guān)法律行動,此案現(xiàn)已進入司法程序。

  島內(nèi)半導(dǎo)體業(yè)者指出,2納米制程開發(fā)難度、投入成本極高,是現(xiàn)階段全球最先進的晶片制造工藝,一旦外泄,或?qū)⒏淖內(nèi)蚓瞥谈偁幐窬帧D壳叭騼H有臺積電、三星、英特爾與日本Rapidus等少數(shù)企業(yè)仍持續(xù)研發(fā),臺積電預(yù)計最快將于2025年底前量產(chǎn)2納米晶片。

  專家分析,先進制程采取高度分工與模組化設(shè)計,單一站點資料難以復(fù)制整體制程,但若涉案者具備研發(fā)背景,并掌握2納米良率調(diào)校的關(guān)鍵參數(shù)與制程條件,就可能大幅縮短競爭對手的追趕時程,尤其對韓國三星、日本Rapidus等正積極發(fā)展2納米的廠商而言,將成為重大突破口。

  臺積電2納米技術(shù)泄密疑云爆發(fā)之際,恰逢美國將宣布依《1962年貿(mào)易擴展法》第232條款,對進口半導(dǎo)體啟動國家安全調(diào)查。美國總統(tǒng)特朗普5日接受CNBC專訪時表示,臺積電將投資美國3000億美元。臺灣有專家指出,泄密案發(fā)生時間點敏感,潛藏政治與經(jīng)濟層面的多重風(fēng)險。(完)

【編輯:李巖】
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